Lösungen für die Hochleistungs-Metrologie von ALIO: Maßgeschneiderte Positioniersysteme für die IC-Fertigung und Waferinspektion

Da ICs für immer komplexere Anwendungen hergestellt werden, sind auch immer anspruchsvollere Messgeräte für die Großserienfertigung erforderlich. Positionskontrolle für die Messung von Produktwafern, ein partikelarmer Betrieb im Reinraum, hochzuverlässige Maschinenleistung sowie geringer Stromverbrauch und niedrige Betriebskosten sind wichtig. ALIO ist in der Lage diese Herausforderungen zu meistern und kann maßgeschneiderte Lösungen für spezifische Kundenanwendungen entwickeln und in Serie liefern.

Ein Beispiel für ein solches ist eine XY-Theta Kombination mit niedrigem Profil und großer Apertur. Obwohl aufgrund der zentralen Öffnung keine symmetrische Verteilung der Kraft auf die Achse möglich war, ist es ALIO gelungen ein System mit 3-Sigma, 6-D Genauigkeit (linear, Geradheit, Ebenheit, Kippen, Neigen und Gieren) und bidirektionaler Wiederholgenauigkeit von weniger als +/- 250nm bereitzustellen. 

In Fällen, in denen eine Bewegung der Optik nicht möglich ist oder der Wafer während des Transports abgesenkt werden muss, um Kollisionen zu vermeiden, müssen Wafer Chucks mit einer perfekt geraden Bewegung in die Messposition gehoben werden. Für solche Anwendungen hat ALIO die patentierten NANO Z® Luftlagertische entwickelt. Diese neuartige Kombination mit seiner sehr kompakten Bauform bietet bis zu 24 mm Hub. Luftlagerung bedeutet vernachlässigbare Reibung und ermöglicht unvergleichliche Positioniergenauigkeit und Wiederholgenauigkeit bis in den niedrigen zweistelligen Nanometerbereich ohne Partikelgenerierung.